How？

如何省錢(qián)？

提高良品率！

提高過(guò)濾器的利用率，提高過(guò)濾器的使用壽命，減少宕機(jī)時(shí)間。

How？

如何提高良品率？

快速揪出晶圓劃痕的元兇?尾端大粒子，Large Particle Count(LPC)0.15-20μm。

CMP制程中Slurry的LPC及其容易變化，如外來(lái)污染，由于化學(xué)環(huán)境、CMP傳遞運(yùn)輸系統(tǒng)，泵的輸送，因剪切力的改變而導(dǎo)致的粒子聚集。slurry本身就不穩(wěn)定。所以控制CMP slurry的尾端大顆粒（LPC）對(duì)提高CMP良品率至關(guān)重要。

Who should use？

誰(shuí)應(yīng)該使用？

研磨液(Slurry)的生產(chǎn)商，CMP SDS系統(tǒng)集成供應(yīng)商，芯片IDM生產(chǎn)企業(yè)或晶圓代工廠(chǎng)

Where to use？

在哪里使用？

POU 端監(jiān)控過(guò)濾效率，過(guò)濾前和過(guò)濾后。

選擇合適的過(guò)濾器。

確保CMP工藝前CMP slurry中具有可控的LPC的量。

CMP slurry（研磨液）、復(fù)雜納米制劑、墨水等需要監(jiān)控大粒子數(shù)量（Large Particle Count）的領(lǐng)域

不同于LAB的設(shè)計(jì)理念，符合在線(xiàn)產(chǎn)品的需求。

全自動(dòng)化和模塊化設(shè)計(jì)理念，大大減少維護(hù)成本和周期。

自動(dòng)稀釋?zhuān)瑢?zhuān)為用于高濃度的研磨液（slurry）的顆粒計(jì)數(shù)而設(shè)計(jì)。

SPOS單顆粒計(jì)數(shù)技術(shù)，可對(duì)150nm的粒子進(jìn)行量化計(jì)數(shù)。

512通道的超高分辨率?？梢粤炕瘶O少數(shù)LPC。

FX系列專(zhuān)為氧化鈰而設(shè)計(jì)，相對(duì)于LE/LS SPOS來(lái)說(shuō)，F(xiàn)X系列有超過(guò)200倍的檢測(cè)濃度。

自動(dòng)稀釋加持下，可對(duì)10⁶/ml的濃度進(jìn)行計(jì)數(shù)！

SPOS

單顆粒計(jì)數(shù)技術(shù)

150nm

進(jìn)行量化計(jì)數(shù)

512

通道的超高分辨率

10⁶/ml

計(jì)數(shù)濃度

SPOS(LE+LS)

單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)原理示意圖

AccuSizer Mini LE 系統(tǒng)

 SPOS(Focus Beam+LE)

聚焦光束計(jì)數(shù)技術(shù)原理示意圖

 AccuSizer Mini FX 系統(tǒng)

Focused Beam+LS

聚焦光束納米計(jì)數(shù)技術(shù)原理示意圖

AccuSizer Mini FX-Nano 系統(tǒng)

分析方法及原理

SPOS（LE+LS）

SPOS（Focus Beam+LE）

SPOS（Focus Beam+LS）

粒徑檢測(cè)范圍

0.5-400μm

0.65-20μm

0.15-200μm

傳感器極限濃度

10,000顆/mL

10⁶顆/mL

10⁶顆/mL

樣本量

最小10mL

精度

1μm PSL標(biāo)準(zhǔn)粒子粒徑平均值±10%

測(cè)量時(shí)間

CMPslurry（研磨液）

(Silicon)、墨水、納米乳

CMPslurry

（研磨液）（Cerium）

CMPslurry（研磨液）

（納米級(jí)Silicon）

安裝要求

電源

3相電源插座（IEC C14插座）、100至240VAC最大功率5安培

壓縮空氣或氣體

1/4’’push on、3.5至5.6 kg/cm²、50至80 psi

水

1/4’’flare、1.8 to 2.5 kg/cm2、25至35 psi

進(jìn)樣

1/4’’flare、0.2 to 2.1 kg/cm²、3至30 psi

排液

1/4’’flare、零壓力排放

尺寸

863.6mm*355.6mm*279.4mm（34’’* 14’’* 11’’）